加熱装置HEATING UNIT
加熱装置
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近赤外ランプ、中赤外ランプ、キセノンランプを利用した各種加熱装置を取り揃えております。
用途：樹脂成型、エレクトロニクス、表面改質、塗装乾燥、印刷関連など
近赤ランプ（ハロゲン）装置化の応用
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- 近赤外線（0.8～2.0μｍ）の波長を利用した加熱装置
- 安定したエネルギー放射により赤外線放射光率が高く経済的
- ハロゲンサイクルにより寿命末期まで出力低下が少なく高効率
- CO2無放出により環境負荷が低い
中赤ランプ（石英管）装置化の応用
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- 中赤外線（2.0～3.5μｍ）の波長を利用した加熱装置
- 水分の吸収波長に適している
- 樹脂加熱、塗装乾燥に応用
光焼成 パルスドキセノン
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- パルス光照射による瞬間加熱処理
- プリンタブルエレクトロニクス製造プロセスに適した、金属導電性インクの瞬間焼成
- 高い均斉度の大面積照射
- 照射対象に適した発光パターンの選択
（照射エネルギー、焼成時間）
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