FPD関連UV装置

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各世代の基板に対応 液晶滴下工法シール材UV硬化装置 絶縁膜用光改質装置 エリア照射用照射炉体

液晶滴下工法シール材UV硬化装置

 特長
  1. 独自のUV照射方法により、照射しにくい部分のシール材の硬化率をアップ。
  2. UVの照射条件をアレンジすることにより、一台でサイズの異なる基板に対応できます。
  3. インバータ電子安定器による連続調光と、UV照度管理システムを搭載し、複数のUV光源の個別管理を行い、安定した照射条件を実現。
  4. マスク装置機構(位置補正機構付き)により、液晶、THTなどに対するダメージをなくします。
液晶滴下工法シール材UV硬化装置
※お客様のご要望にあわせて設計・製作致します。 このページの上に戻る

絶縁膜用光改質装置

液晶ガラスの内側にパターニングされている電極の絶縁膜保護膜を改質する装置です。従来の高温処理プロセスを低温化し、更に時間の短縮が図れます。
ラインスピードによりランプ灯数を決定し、特殊フィルターを装着します。

絶縁膜用光改質装置
※お客様のご要望にあわせて設計・製作致します。

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エリア照射用照射炉体

FPDパネル製造工程でUV接着する為の炉体です。
パネルサイズに合わせて又はその他最大サイズに応じて高照度の紫外線を均一に照射します。
特殊フィルターを装着し低温硬化を可能にします。

エリア照射用照射炉体
※お客様のご要望にあわせて設計・製作致します。
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その他応用装置
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