UV装置 エキシマ紫外線照射装置

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エキシマ

高品質な製品と生産性の飛躍的向上を約束できる172nmエキシマ光による洗浄改質装置です 特に半導体、液晶・プラズマディスプレイ等FPDへの応用が最適です。
This is a 172nm Excimer UV cleaning reformer that promises high-quality products and a dramatic improvement in productivity, and is particularly suitable for application to flat paneldisplays (FPD) such as semiconductor, liquid crystal and plasma displays.



新型アイエキシマ紫外線照射装置は励起方式として高周波(RF)放電方式を採用しています。 バリア放電に比べて紫外線出力が大きく、またランプ管壁へのダメージが小さいため長寿命、超高電圧を使用しないため消費電力も小さく、安全性が高く、紫外線出力の調整が可能 という4つの大きな特長があります。

(前面石英ガラス無し)エキシマUV照射装置の特長

  1. ランプ単体を個別に保護管式にすることでエキシマ光で劣化した前面石英ガラスの交換費用を抑えられます。
  2. ランプ寿命 平均2,000時間
  3. 照射雰囲気をドライN2で酸素濃度を管理(1〜3%)する事で改質力を大幅にUPできます。

用途

    ・半導体分野でのウエハー、ガラス基板のドライ洗浄
    ・液晶、プラズマディスプレイ等のFPDの製造工程でのドライ洗浄
    ・PTFE・シリコーン親水性処理
    ・ポリエチレンフィルムの染色性処理
    ・PETフィルムの表面処理
    ・超純枠製造装置への応用
    ・塩素系有機化合物の分解装置への応用(フロン、PCB、ダイオキシン等)
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新型エキシマランプ


ランプの構造


※お客様のご要望にあわせて設計・製作致します。このページの上に戻る
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