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高品質な製品と生産性の飛躍的向上を約束できる１７２nmエキシマ光による洗浄改質装置です
特に半導体、液晶・プラズマディスプレイ等ＦＰＤへの応用が最適です。
This is a 172nm Excimer UV cleaning reformer that promises high-quality products and a dramatic improvement in productivity, and is particularly suitable for application to flat paneldisplays (FPD) such as semiconductor, liquid crystal and plasma displays.
This is a 172nm Excimer UV cleaning reformer that promises high-quality products and a dramatic improvement in productivity, and is particularly suitable for application to flat paneldisplays (FPD) such as semiconductor, liquid crystal and plasma displays.
高照度「保護管なし」ランプ搭載 新型エキシマ紫外線照射装置
新型アイエキシマ紫外線照射装置は励起方式として高周波（ＲＦ）放電方式を採用しています。 バリア放電に比べて紫外線出力が大きく、またランプ管壁へのダメージが小さいため長寿命、超高電圧を使用しないため消費電力も小さく、安全性が高く、紫外線出力の調整が可能 という４つの大きな特長があります。（前面石英ガラス無し）エキシマＵＶ照射装置の特長
- エキシマランプのバリエーションを増やしました。
・新しい印刷電極と新しい放電方式による、発光効率の高いランプを開発（標準化済み）
・特殊表面コーティングを開発し、外部電極を完全に保護
・従来の保護管（又は石英窓）が不要となり、高出力が得られる
・照射距離を３mm（又は５mm）とし、大型基板対応の設計に配慮 - ランプ寿命 平均２,０００時間
保証時間１,５００時間（初期照度の７０％までの積算点灯時間） - 照射雰囲気をドライＮ２で酸素濃度を管理（≦２％）する事で改質力を大幅にＵＰできます。
用途
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・半導体分野でのウエハー、ガラス基板のドライ洗浄
・液晶、プラズマディスプレイ等のＦＰＤの製造工程でのドライ洗浄
・ＰＴＦＥ・シリコーン親水性処理
・ポリエチレンフィルムの染色性処理
・ＰＥＴフィルムの表面処理
・超純枠製造装置への応用
・塩素系有機化合物の分解装置への応用（フロン、ＰＣＢ、ダイオキシン等）
新型エキシマランプ
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ランプの構造
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※お客様のご要望にあわせて設計・製作致します。
FPD用UV装置
